負性光致抗蝕劑的主要種類有聚肉桂酸酯類、聚烴類一雙疊氮系、聚酯類。以聚烴類一雙疊氮系為例說明如下。

聚烴類一雙疊氮系光致抗蝕劑是由聚烴類樹脂、雙疊氮型交聯劑和增感劑溶于適當的溶劑配制而成，由于它和襯底材料，特別是金屬襯底的黏附性較好，并且具有較好的耐腐蝕性能，因而在集成電路、大面積集成電路以及各種薄膜器件的光刻工藝中得到廣泛應用。

含有疊氮官能團的有機化合物，在光或熱的作用下，分解生成氮烯(nitrene)自由基，即：

RN3——R-N：(三重態氮烯)或R-N.(單一態氮烯)

雙疊氮交聯劑感光分解后，生成的雙氮烯自由基具有較強的化學活性，極易與相混合在一起的聚烴類分子鏈上的不飽和雙鍵進行加成反應，生成具有三維結構的不溶性產物，而未經感光的光致抗蝕劑則保持它的原有的溶解性質，顯影后形成負性圖像。

雙疊氮交聯劑的感光波長范圍為260~460nm，添加適宜的增感劑，例如二苯甲酮、蒽醌、吖啶酮等，可以使光致抗蝕劑的感光度有所提高。